cell photomask,光掩膜,细胞光掩膜-可按照需求定制光掩膜,光掩膜微图案印制仪

型号:细胞光掩膜
联系人:李胜亮
联系电话:18618101725
品牌:法国


标准光掩膜为2.5英寸,并允许在同一时间,以缩微4个盖玻片(24-25mm直径)。


我们的标准设计由8个区域组成,大约42个子区域可以完全观察到10x物镜场。 对于一张载片,您有数千个印刷的微图案。 图案的尺寸从10到100μm。 可定制光掩膜.


MICROPATTERNING PHOTOMASK
Choose the shape you want for micropatterning experiment

高精度设计

微图案10至100μm,分辨率约1μm

轻松定位玻璃载玻片

对齐标记有助于放置幻灯片

分析的多样性

8个区域,大约42个子区域完全可观察到10x物镜场
该光掩模是石英掩模,具有铬设计涂层,用于微图案化实验。 它用于在玻璃载玻片上印刷微图案,具有深紫外线。

微图案光掩模在微图案套件中出售,并自行制作您自己的微图案。 它是一个6厘米×6厘米的正方形,可以与Masker一起用于微图案的印刷步骤。

提供的标准形状是圆盘,线条,正方形,矩形,三角形和网格。
您也可以要求我们为您设计的定制形状。 设计定制光掩模所接受的格式如下:DXF,GDSII,EPS或PDF。



二、出售光掩膜微图案印制仪


打印微图案的精确方便的设备

特点:

更好的坚持

改善玻璃载玻片和光掩模之间的接触

Better adherence

Improves the contact between the glass slides and the photomask


轻松定位玻璃载玻片

无需使用水或真空将载玻片粘在光掩模上

Easy positioning of the glass slides

No need to use water or vacuum to stick the slides to the photomask


均匀印刷

设计允许在载玻片上施加均匀的压力

Homogeneous printing

Design that allows a homogeneous pressure on the slides

该光掩膜制造仪是一种方便,高精度的设备,用于在载玻片上印刷微图案。 它可与该品牌的光掩模和24 mm玻璃载玻片一起使用。 Masker作为微图案套件的附件提供,以改善印刷过程。 它允许载玻片更好地粘附在光掩模上,因此,更精确地印刷微图案(无衍射)。 使用此附件,您无需使用水滴或真空源将载玻片粘贴到光学掩模上。

How to use the Masker :

  • Once your photomask is cleaned and activated, place it on the Masker. Then turn it upside down so that you have the chromium side facing you.
  • Gently place your slides at their right stop, with coated side on the chromium side.
  • Close the Masker. Holding it tight, turn it upside down once again and lock it with the screw.
  • Place it in the UV Printer for 10 minutes to allow the printing of the micropatterns.
  • Then, gently open the masker and remove the slides. If they are attached strongly to the mask, add water on the mask to help them detached.