磁控溅射纳米粒子沉积系统
磁控溅射纳米粒子沉积系统可在真空中生成超纯和单分散的纳米颗粒，然后在几分钟内将纳米颗粒沉积到任何固体基材上
磁控溅射纳台式纳米颗粒沉积系统
该台式纳米颗粒沉积系统，专为正在研究纳米颗粒性质和应用的科学家或技术人员而设计。 该仪器可产生非团聚的超纯纳米颗粒涂层。
该系统的设计使用简单，通过清晰的样品引入门和简单的触摸屏即可轻松加载样品，从而简化系统操作。
紧凑型台式设计和简单的触摸屏操作使该系统非常适合任何研究纳米颗粒应用的实验室。
真空沉积工艺可生产出wu烃或其他污染物的超纯纳米颗粒，这通常困扰化学技术。 纳米颗粒涂层直接沉积在您的基材上，经过30分钟的典型循环时间后即可进行分析； wu需进一步的干燥或纯化步骤。
该系统可在真空中生成超纯和单分散的纳米颗粒，然后将其直接沉积到目标基质上。 NL50避免了使用溶液和粉末基纳米颗粒时面临的许多问题。
该系统可以在几分钟内将纳米颗粒沉积到任何固体基材上。zui常用材料的简单配方使研究人员能够将裸露的纳米粒子（例如Ag或Au）沉积到其基底上，
然后准备用所需的蛋白质或抗体直接进行功能化。 该系统利用一种称为终止气体聚集的技术在真空中生成纳米颗粒。
为什么选择该该纳米颗粒沉积系统
通过克合成的化学合成纳米颗粒已经问世，那么为什么要投资购买沉积真空相纳米颗粒的设备呢？该系统中产生的纳米粒子超纯且不含表面活性剂或配体，并且在沉积后即可立即进行功能化，从而wu需冗长而复杂的多步化学纯化工艺。纳米颗粒也是单分散的，因此避免了与结块有关的问题。实时控制沉积密度，可确保从单分散颗粒到3D多孔涂层的各种应用中可重复的结果。使用这种技术，纳米材料的切换也非常快捷。与化学合成开发需要花费数月的时间不同，目标材料可以在数分钟内更换，以沉积各种常见的金属或合金。直接沉积到基材上意味着浪费zui少，因为仅需按需制备纳米颗粒即可。
可在客户的样品上沉积一系列纯净的纳米颗粒和合金纳米颗粒。
沉积过程是在真空中进行的，以确保可控的wu污染过程。
我们提供对纳米颗粒尺寸和面积覆盖的出色控制。
可以优化纳米颗粒薄膜的孔隙率，以满足客户的需求。
我们还可以提供某些材料的一些标准演示样本。
由该纳米颗粒沉积系统产生的纳米粒子是通过磁控管溅射法生成的，使用的是少量的氩等离子体，以生成所需材料的原子。
然后，这些原子在非常短的时间内（<1μs）被热化并形成纳米颗粒。
纳米颗粒通过一个小孔射入沉积室并射到样品上
用户可以通过调节等离子体功率和氩气流量在2-20nm左右的范围内改变尺寸（取决于材料）。