日本分光制的椭圆计配有日本分光专利产的PEM双重锁定方式和光伺服・光参考方式,实现高速性和高安定性。由于偏光素子的轴配置适合特别薄的膜和微小的偏光测量,所以主要用于向高集积化和高精细化发展的半导体及高机能光学薄膜等材料的评价。
◆规格
▼M-210/220/230/240/550/ELC-300
型号
M-210
M-220
M-230
M-240
M-550
ELC-300
测量方法
PEM双重锁定方式、光伺服/光参照控制方式
分光器
-
双单色器 自动波长驱动装置
双单色器
(260~900nm) 单单色器
(900~1700nm) 自动波长 驱动装置
单单色器 自动波长 驱动装置
双单色器 自动波长 驱动装置
测量波长
He-Ne激光 (632.8nm)
He-Ne激光(632.8nm) Xe光源 (260~860nm)
He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源
(240~700nm)
(26~900nm) 卤素灯
(900~1700nm)
Xe光源 (350~800nm)
He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (260~860nm)
入射角范围
40゜~ 90゜ 连续自动设定 (0.01゜间隔)
45゜~ 90゜ 连续自动设定 (0.01゜间隔)
膜厚测量范围
0~99999Å
测量时间
1msec以上
20μsec~16sec
测量准确度*
屈折率 ±0.01
膜厚 ±1Å
消衰係数 ±0.01
*准确度是指测量时间100msec以上。另外、根据表面状态、膜质不同准确度也不同。
样品室
样品垂直放
样品水平放
检测器
检光子(Glan-Taylor棱镜) 紫外可见区域:光电子倍増管 近红外区域:InGaAs-PIN光电二极管(M-240)
▼软件
主机标准
1.时间变化测量
2.膜厚测量 3.Δ-Ψ模拟 4.光谱测量・解析*1 5.诱电率计算*1 6.反射率计算*1 *1 M-210型号不是分光型不可使用
选项程序
1. 映射测量(自动X-θ带映射台) 2.多层膜解析*2 3.多入射角测量 4.灵敏度模拟*2 5.波长Cauchy光谱*3 6.椭圆率测量・解析、测量波长固定复屈折(带异方性解析台)*3 7.测量3次元屈折率(需要异方性解析台)*3 8.测量光弾性定数(带光弾性测量用透过台)*3
*2 M-210不是分光型的不能使用 *3 M-550不能测量透过不能使用。