原子力显微镜探针/针尖
英文名称： Olympus Probes
型号:： OMCL
价格:请致电：010-57128832,18610462672
品牌: 日本

AC（动态）模式AFM（原子力显微镜）的标准硅探针铂膜型硅探针(OMCL-AC240TM)四面刃型硅探针(OMCL-AC160BN)动态模式原子力显微镜专用低磨耗探针(OMCL-HA100WS)动态模式原子力显微镜（水中）专用氮化硅探针(OMCL-TR400PSA)接触模式原子力显微镜专用标准氮化硅探针(OMCL-TR400PSA,OMCL-TR800PSA)LFM(水平力显微镜）专用型(OMCL-RC800PSA)镀金表面探针型(OMCL-TR400PB,OMCL-TR800PB,OMCL-RC800PB)

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●强大的数据库资料管理功能，图像存储、查找非常方便，尤其适合大量图像及检查报告长期保存、满足复诊及远程会诊的要求。
●多项自动统计功能，方便工作人员进行多种项目结果统计。
●齐全的专业图谱资料及在线帮助资料，有利于工作人员随时查阅、比较，做出正确的诊断。
●具有自动计算距离、角度、面积、光密度及灰度直方图，方便科研工作的开展。
●可对图像的高度、对比度、饱和度、色彩等进行调整，并具备底片效果、黑白效果、图像旋转、加注符号、文字等多种图像处理功能。
●系统最大放大倍数可增至6000倍，细胞内部结构清晰可见。
●全过程图标及中文提示，大多数操作只需鼠标轻点即可完成，配合中文手写输入，普通工作人员无需任何培训均可胜任。
●本系统同时兼容其它临床显微检查项目的需要。

化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析；
 
氧化硅薄膜窗规格
 
窗口类型
薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
框架厚度
20nm
 2x1阵列，100X1500µm
Φ3mm
200µm
40nm
 2x1阵列，100X1500µm
Φ3mm
200µm
20nm
 3x3阵列，窗口100X100µm
Φ3mm
200µm
100nm
 3x3阵列，窗口100X100µm
Φ3mm
200µm
8nm
 窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小70x70µm
Φ3mm
200µm
18nm
 窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小60x60µm
Φ3mm
200µm
40nm
 窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小50x50µm
Φ3mm
200µm
 
优点：
 
应用：
氧化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：
● 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。
● 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。
● 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。
● 聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。
 
氧化硅薄膜TEM网格操作使用：
如果正确操作，氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反，若用工具直接接触薄膜，则会即刻损坏薄膜。为防损坏，可用尖嘴镊子小心夹取，就像夹取其他TEM网格一样。 
 
使用前清洁：
    氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。

    如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。

    通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。