纳米研磨机,纳米研磨分散机,纳米分散研磨机,纳米材料研磨机通过是 定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
纳米研磨机是
干磨的一种安全而高效的替代方案。
干磨产生大量灰尘，从而需要配备适当的过滤系统。当研磨其粉尘与大气氧气混合会产生***性混合物的物质时，这一点尤其重要。达到规定的安全等级通常需要精心设计的技术解决方案，如除尘和惰性气体覆盖系统。这些过滤系统的成本通常大大超出实际研磨机的成本。
用转子-定子装置湿磨此类物质具有诸多好处：
· 研磨得到的细颗粒被直接融合到悬浮液中，因而从开始就避免了灰尘的形成。
· 与干磨系统不同，被研磨的物质保持在系统内，从而大幅减少了损失。因此，湿磨非常适合有机化学品，尤其是优质物质，或者有毒物质的研磨。
· 相对干磨过程而言，湿磨的产品进料和计量较容易。
纳米研磨机是细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
纳米研磨机的恶型号
磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器
| 研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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| 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
| CMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| CMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
| CMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| CMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| CMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的10%。 | |||||