纳米研磨机,纳米材料研磨机是 透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。 可以达到纳米级. 

纳米研磨机是

是干磨的一种安全而高效的替代方案。 

干磨产生大量灰尘，从而需要配备适当的过滤系统。当研磨其粉尘与大气氧气混合会产生***性混合物的物质时，这一点尤其重要。达到规定的安全等级通常需要精心设计的技术解决方案，如除尘和惰性气体覆盖系统。这些过滤系统的成本通常大大超出实际研磨机的成本。 

用转子-定子装置湿磨此类物质具有诸多好处：

· 研磨得到的细颗粒被直接融合到悬浮液中，因而从开始就避免了灰尘的形成。

· 与干磨系统不同，被研磨的物质保持在系统内，从而大幅减少了损失。因此，湿磨非常适合有机化学品，尤其是优质物质，或者有毒物质的研磨。

· 相对干磨过程而言，湿磨的产品进料和计量较容易。

纳米研磨机是

该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

1  线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

纳米研磨机的型号本设备适合于各种不同大小的容器

研磨分散机	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	3000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	8000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	20000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	60000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的10%。