激光脉冲镀膜(PLD)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A/pulse）。

技术参数

Pioneer240 1、最大wafer直径 4” 2、最大靶材数量 6个1” 或3个2” 3、压力(Torr) <10-8  4、真空室直径 24” 5、基片加热器 4”，旋转 6、最高样品温度 850℃ 7、Turbo泵抽速 （liters/sec） 800

主要特点

*PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸发，生产出与靶子同样化学组成的膜。 *PLD应用广泛：很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。 *PLD节省成本：一束激光能够供多个真空系统使用。 *PLD高效率：在10至15分钟，可生长高质量的样品。 *PLD可升级：当需要大批量生产复合氧化物膜时，Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。