产品描述
晶芯® 微阵列基片在GMP条件的超净车间中生产，采用先进表面修饰工艺对优选玻片进行表面清洁、修饰、加工，表面修饰均一性高，疏水性适中，可用于各接触式和非接触式点样。自发荧光背景低，芯片扫描结果具有较高的信噪比。晶芯® 微阵列基片系列包括光学级氨基、醛基、环氧基基片和高分子聚合物修饰的高分子三维基片，专用于核酸、蛋白微阵列芯片点样制备。
晶芯® 高分子三维基片具有较高的键合容量及优异的反应环境。晶芯® 高分子三维基片G在玻片表面修饰了一层极薄的含活化醛基的三维结构高分子聚合物，为固定于基片表面的蛋白分子提供了亲水环境，有利于保持蛋白样品活性。点样后的样品通过扩散方式进入聚合物层，并通过共价连接固定其中，蛋白样品在点样前不需要进行特别的修饰或前处理。
产品特点
★ 光学级基片较普通基片表面平整度更高、点样效果更为均一
★ 超净车间中生产，表面洁净度高
★ 表面湿润性均一，点样后样品点形状圆润、均匀
★ 自发荧光背景及非特异吸附低
★ 表面活性基团分布均匀
★ 经过严格的产品质量控制
★ 包括标签型和无标签型两种类型，标签材质对常见杂交、免疫反应和清洗用化学试剂均呈惰性
★ 晶芯® 高分子三维基片G可适用于多通道移液器
基本参数
★ 基片尺寸 (mm)：75.5 (± 0.2) × 25.2 (± 0.2) × 1.02 (± 0.05)
★ 可点样面积 (mm)：65 × 22
产品性能一览表
说明书下载
1、氨基基片产品说明书
2、醛基基片产品说明书
3、环氧基片产品说明书
4、高分子三维基片产品说明书
订货信息